"Alta Moda" exhibición fotográfica peruana se inaugura en Nueva York
La muestra permanecerá abierta al público por un período de cuatro meses en el Instituto Español Reina Sofía de Nueva York.
Una delegación de Perú encabezada por el Ministerio de Comercio Exterior y Turismo (Mincetur) y que incluye a los diseñadores Ani Álvarez Calderón, Sergio Dávila y Pamela Gonzales, visitará la exhibición.
Además de los diseñadores peruanos, acompañan a la delegación peruana el embajador de Perú en Washington, Harold Forsyth; el embajador de la Misión ante las Naciones Unidas, Gustavo Meza Cuadra; y la cónsul de Perú en Nueva York, María Teresa de Hart.
Según el Mincetur Alta Moda contribuirá al posicionamiento de la Marca Perú, la promoción de Cusco como principal destino turístico del país.
Asimismo, contribuirá a la difusión de la labor que se viene realizando en los Centros de Innovación Tecnológica (Cites), en la mejora del procesamiento de la fibra de alpaca y la calidad de las confecciones, para elevar su competitividad en los mercados y el nivel de ingresos de los fabricantes.
Además, Alta Moda constituye una oportunidad ideal para promocionar internacionalmente las confecciones textiles peruanas, que en el rubro de las exportaciones peruanas no tradicionales tiene una de las participaciones más altas.
Estas prendas son de alto valor y delicada confección, elaboradas generalmente por comunidades indígenas productoras de la fibra de alpaca, agregó.
Alta Moda fue lanzada por Testino en Lima en abril de este año, y se basa en una investigación del trabajo de Martín Chambi, inspirada en Cusco y en la historia de la tradición del vestuario peruano.
Esta compuesta por imágenes de trajes de las provincias de Cusco, Acomayo, Anta, Calca, Canas, Espinar, Canchis, Chumbivilcas, Espinar, Paucartambo, entre otras.
El viceministro de Turismo, José Miguel Gamarra, estuvo en Nueva York en los dos días previos liderando esta delegación y realizó una serie de reuniones.
Fuente: Andina
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